AP1000机组大修下行过程的水化学控制

摘要

AP1000 机组下行阶段化学控制的目的是控制并优化腐蚀产物的溶解和去除，最小化机组辐射场和人员辐照剂量，同时，解决系统局部位置高辐射场和确保换料水池清澈，为换料操作准备满足要求的冷却剂。